アクアピール / — 水分·鎮静管理
渦流保湿 +
渦流保湿 +
アクアピールは渦流吸引基盤の穏やかな角質除去と皮膚バリア必須栄養注入を組み合わせた基礎ケア。エイブル皮膚科 松坡はアクアピールと(スキンボトックス基盤毛穴・キメ管理)を統合水分・鎮静プログラム。
レーザー・ブースター施術前後または単独で施行、敏感肌にも負担ないケア。無回復 — 即時メイク可能。
渦流スパイラル吸引チップが回転しながら1)毛穴内ブラックヘッド・皮脂・角質を穏やかに除去、2)同時に栄養溶液を毛穴に均等注入。単純クレンジングを超えた吸引+栄養伝達統合アプローチ。
アクアピールが表層整え後、(栄養成分の精密細注入)が真皮表層に作用し毛穴・キメ・テカリ調節。1)表層整え+2)微細ブースター+3)鎮静仕上げの3段階が1回完成。
強いレーザー会次なし低刺激水分・キメ・バリアケアが必要な方、または他施術と並行希望に推奨。
乾燥で粗いキメは表層角質累積と水分不足を伴う。アクアピールが穏やかに角質除去しながら栄養溶液注入 — キメが滑らかになり皮膚が軽くなる。
毛穴が伸びテカテカした皮膚は追加が効果的。微量スキンボトックスが真皮表層の皮脂分泌を調節し毛穴が漸進的に整えられる。
同じアクアピールでも栄養溶液選択と吸引強度、追加可否が結果左右。
皮膚厚さ・角質状態・毛穴様相・悩み優先順位を評価。アレルギー病歴、最近施術履歴、活動性ニキビ・創傷有無確認。
アクアピール吸引チップを部位別皮膚状態に合わせて強度調整、栄養溶液選択。追加時真皮表層に均一分布。
渦流スパイラル吸引チップでブラックヘッド・皮脂・角質を穏やかに除去しながら必須栄養成分を毛穴内に注入。
ボトックス微量を真皮表層に均一伝達。毛穴・キメ・テカリ調節ケア。
LDMまたは鎮静マスクで皮膚を鎮静しバリア回復。
2~4週間隔で定期管理推奨。キメ・毛穴・水分状態により間隔調整。
可能。レーザー・ブースター前後の鎮静・水分ケアとしてよく使用。
安全。低刺激・楽な施術、敏感肌の定期管理に適合。
可能。栄養成分の伝達は毛穴・キメの悩みあるとき追加するオプション。
1~2週間後発現し3~4ヶ月維持。
即時可能。回復期ほとんどない施術。
Be able to choose, not be pushed.
강요 없이, 투명한 선택지를 먼저 드립니다
本コンテンツは一般的な医学情報です。施術効果・副作用には個人差があります。来院相談をお願いいたします。
